普泰克制冷設備
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普泰克 光刻機溫控系統，以及極紫外光刻（EUV）等前沿技術的加速應用，芯片制造對工藝精度的要求達到高度。
普泰克 光刻機溫控設備，是一款專為半導體光刻核心制程量身定制的精密熱管理裝備。在優良的光刻工藝中，光源、光學鏡頭、掩模臺及晶圓載臺等核心組件對溫度極其敏感，微小的熱變形或折射率變化均可能導致線寬偏差與套刻誤差。
普泰克 光刻機腔體溫控，該溫控系統聚焦于光刻機腔體對溫度穩定性、均溫性及潔凈度的嚴苛要求，致力于提供持續、平穩、高精度的恒溫控制環境，力求保障光刻工藝的良率與可靠性，是優良光刻裝備中的核心配套系統。
普泰克 光刻機高精度溫控，是一款專為半導體光刻工藝量身定制的精密熱管理裝備。在光刻制程中，光學鏡頭、掩模臺及晶圓載臺等核心組件對溫度極其敏感，微小的熱變形均可能導致線寬偏差與套刻誤差。
普泰克 涂膠顯影機溫控，涂膠顯影（Track）工藝是芯片制造中極為關鍵的一環，其內部的軟烤（Soft Bake）與硬烤（Post Exposure Bake, PEB）等工序對溫度的均勻性與穩定性要求。
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