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普泰克 涂膠顯影水冷機,依托其在精密熱管理領域的技術積累,致力于為半導體及泛半導體產業鏈的多個關鍵環節提供穩定、可靠的溫度控制解決方案。
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普泰克 光刻機恒溫控制設備,是一款專為半導體優良光刻制程量身定制的核心精密溫控裝備。在光刻工藝中,光學鏡頭、掩模臺、晶圓載臺及光源系統等核心組件對溫度極其敏感,微小的熱變形或折射率變化均可能導致線寬偏差與套刻誤差。
普泰克 光刻機液冷溫控,是一款專為半導體光刻核心制程量身定制的精密熱管理裝備。在優良的光刻工藝中,光源、光學鏡頭、掩模臺及晶圓載臺等核心組件對溫度極其敏感,微小的熱變形或折射率變化均可能導致線寬偏差與套刻誤差。
普泰克 光刻機溫度控制系統,是一款專為半導體優良光刻工藝量身定制的核心精密溫控裝備。在光刻制程中,光源、光學鏡頭、掩模臺及晶圓載臺等核心組件對溫度極其敏感,微小的熱變形或折射率變化均可能導致線寬偏差與套刻誤差。
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