普泰克 研磨液在線混配冷卻系統產品介紹

一、 產品概述

二、 核心結構與工作原理

• 高精度在線混配模塊：系統集成精密質量流量計或比例調節閥，能夠根據工藝配方實時調節原液與去離子水的混合比例。優化的靜態混合器或動態攪拌設計，力求實現流體的快速、均勻分散，保障研磨液濃度的準確性與均一性。

• 高效換熱與溫控模塊：針對研磨液在線流動過程中的熱管理需求，系統配備高性能循環泵與精密換熱單元。結合優良的PID智能算法與自整定功能，力求迅速帶走混合過程產生的熱量或抵消環境溫差，將研磨液溫度精準控制在設定范圍內。

• 動態響應與補償模塊：針對在線混配過程中流量變化帶來的熱負荷波動，系統具備快速的動態響應能力。通過前饋與反饋相結合的復合控制策略，力求迅速抵消外部干擾，維持工藝溫度的平穩。

• 全密閉設計與安全防護平臺：采用全密閉循環回路設計，膨脹罐溫度始終保持在較低溫度，力求避免高溫油霧揮發及低溫吸收空氣水分的問題。配備直觀的人機交互界面，內置多重軟硬件安全機制（如超溫報警、泵故障保護等）。

三、 核心技術優勢

• 混配精度與溫控穩定性：依托普泰克成熟的高精度流體控制方案，系統力求實現研磨液濃度的穩定配比與±0.5℃甚至更高精度的溫度控制，有效減少因溫度波動導致的研磨速率變化或表面缺陷，提升晶圓加工的良率。

• 優異的均質性與動態響應：優化的流體動力學設計與快速響應的控制算法相結合，力求消除在線混配過程中的局部濃度梯度或溫度熱點，保障CMP工藝的均勻性與批次重現性。

• 潔凈與防污染設計：從材質選型到密封結構，系統充分考慮了半導體級化學品的高潔凈度要求，接觸物料部分可選用特種防腐材質，力求杜絕金屬離子析出與微粒污染，符合電子級化學品的生產規范。

• 靈活的工藝適配能力：系統支持多種通訊協議與接口，易于與現有的DCS或PLC系統集成。同時，其寬廣的溫控范圍與靈活的參數設置，力求適應不同種類研磨液的多樣化工藝需求。

四、 典型技術參數（參考）

• 適用介質：半導體CMP研磨液（Slurry）、電子級酸堿稀釋液等

• 溫控范圍：-80℃至+300℃（依具體機型與配置而定）

• 控溫精度：±0.5℃至±1℃（在特定工況下）

• 混配精度：根據流量計選型及工藝要求定制

• 循環流量：可調，滿足不同管徑與流速的需求

• 加熱/制冷功率：根據輸送量與工藝熱負荷定制

• 材質選擇：316L不銹鋼、PTFE、PFA等特種耐腐蝕材質可選

• 控制系統：智能PID控制，支持數據記錄、曲線顯示及遠程通訊

• 安全保護：超溫報警、過流保護、液位監測、緊急切斷

五、 普泰克 研磨液在線混配冷卻系統主要應用領域

• 半導體晶圓制造：CMP研磨液的在線混配與恒溫供應、晶圓清洗液的即時配制與溫度控制。

• 精密材料加工：光學鏡片研磨、藍寶石襯底加工過程中的研磨液制備與溫度管理。

• 研發與中試：新型研磨液配方開發、在線混配工藝參數優化、小批量試產及工藝放大驗證。