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產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

半導(dǎo)體溫控設(shè)備

半導(dǎo)體廢氣低溫冷凝系統(tǒng) 精密控溫機(jī)組液冷設(shè)備光刻機(jī)用超純水Chiller Photo/Track Chiller 光刻后蝕刻溫控光刻機(jī)涂膠顯影機(jī)溫控 Implant氣體降溫設(shè)備離子注入機(jī)溫控設(shè)備純水供應(yīng)管線恒溫超純水溫度控制單元拋光液生產(chǎn)溫控系統(tǒng) 蝕刻液溫控chiller CMP漿液溫控chiller 研磨液設(shè)備專用Chiller

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多領(lǐng)域“通吃”！半導(dǎo)體溫控設(shè)備（Chiller）開啟溫控新時(shí)代

精準(zhǔn)控溫，智造未來｜普泰克溫控系統(tǒng)助力半導(dǎo)體材料高效穩(wěn)定生產(chǎn)

溫度控制機(jī)的控制系統(tǒng)介紹

TCU溫度控制系統(tǒng)的特點(diǎn)與應(yīng)用

普泰克涂膠顯影水冷機(jī)

普泰克涂膠顯影水冷機(jī)，依托其在精密熱管理領(lǐng)域的技術(shù)積累，致力于為半導(dǎo)體及泛半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的多個(gè)關(guān)鍵環(huán)節(jié)提供穩(wěn)定、可靠的溫度控制解決方案。

更新時(shí)間：2026-06-29

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普泰克光刻后蝕刻溫控

普泰克光刻后蝕刻溫控，依托其在精密熱管理領(lǐng)域的技術(shù)積累，致力于為半導(dǎo)體前道核心制程提供穩(wěn)定、可靠的溫度控制解決方案。

更新時(shí)間：2026-06-29

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普泰克光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)溫控

普泰克光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)溫控，依托于精密的熱力學(xué)設(shè)計(jì)與優(yōu)良的自動(dòng)化控制算法，旨在為光刻機(jī)核心光學(xué)組件提供高度穩(wěn)定、無振動(dòng)的恒溫環(huán)境。

更新時(shí)間：2026-06-29

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普泰克光刻機(jī)恒溫控制設(shè)備

普泰克光刻機(jī)恒溫控制設(shè)備，是一款專為半導(dǎo)體優(yōu)良光刻制程量身定制的核心精密溫控裝備。在光刻工藝中，光學(xué)鏡頭、掩模臺(tái)、晶圓載臺(tái)及光源系統(tǒng)等核心組件對(duì)溫度極其敏感，微小的熱變形或折射率變化均可能導(dǎo)致線寬偏差與套刻誤差。

更新時(shí)間：2026-06-29

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普泰克光刻機(jī)液冷溫控

普泰克光刻機(jī)液冷溫控，是一款專為半導(dǎo)體光刻核心制程量身定制的精密熱管理裝備。在優(yōu)良的光刻工藝中，光源、光學(xué)鏡頭、掩模臺(tái)及晶圓載臺(tái)等核心組件對(duì)溫度極其敏感，微小的熱變形或折射率變化均可能導(dǎo)致線寬偏差與套刻誤差。

更新時(shí)間：2026-06-29

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普泰克光刻機(jī)溫度控制系統(tǒng)

普泰克光刻機(jī)溫度控制系統(tǒng)，是一款專為半導(dǎo)體優(yōu)良光刻工藝量身定制的核心精密溫控裝備。在光刻制程中，光源、光學(xué)鏡頭、掩模臺(tái)及晶圓載臺(tái)等核心組件對(duì)溫度極其敏感，微小的熱變形或折射率變化均可能導(dǎo)致線寬偏差與套刻誤差。

更新時(shí)間：2026-06-29

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